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보도자료
| 제목 | 차세대 반도체 분석기술 우리나라가 주도 | ||||
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| 등록일 | 2005-08-18 | 조회수 | 3860 | ||
| 첨부 파일 |
 보도자료(반도체박막 신규규격 제안 그림제외).hwp |
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”차세대 반도체 분석기술 우리나라가 주도” - 세계최초로 표면 비파괴 분석방법 ISO 에 신규 국제규격으로 제안 - 우리나라가 반도체 제조기술 뿐 아니라 분석기술도 최고임을 다시 한번 증명하였다. 바로 1 나노미터(1 나노미터는 머리카락의 10만분의 1)의 정확도를 갖는 반도체용 박막의 비파괴 분석방법을 세계최초로 개발하여 국제표준화기구에 신규 표준으로 제안한 것이다. ※ 이 분석방법은 우리나라에서 자체개발한 표면 미량 성분분석용 표준시편을 이용하여 투과전자현미경의 EELS(전자에너지손실분광법) 등에 적용함으로써 반도체용 박막을 분석하는 방법임 산업자원부 기술표준원(원장 김혜원)은 지난 5월 이태리에서 개최된 국제표준화총회에서 우리나라가 개발한 반도체박막의 비파괴 분석방법에 대한 발표를 이미 완료하였고 전자현미경의 종주국인 일본 및 유럽국가가 적극적 관심을 보여 규격안의 제출을 요청받았다. 이번에 우리나라가 개발한 반도체 박막 분석기술의 국제규격화는 미국, 일본 등 선진 반도체업계를 바짝 긴장시키고 있다. 이는 우리나라가 반도체 뿐 아니라 생산 및 평가 장비 제조기술에 있어서도 급격하게 성장하고 있어 선진국의 독점영역인 반도체 장비분야에서의 아성을 위협하여 자신들의 영향력이 감소되는 것에 대한 우려 때문이다. 우리나라는 2004년 반도체생산 197억달러로 세계시장의 8.7%를 차지하여 미국, 일본과 함께 3대 강국의 지위를 확보했고 특히 D램(45.2%)과 플래시메모리(25.7%)의 경우 세계 최고를 자랑하고 있다. 따라서 반도체소자의 초정밀 나노분석방법을 신규 국제표준으로 제안함으로써 반도체 강국의 위상을 높임과 더불어 국제표준을 선점할 수 있는 기반을 제공하였다는 점에서 의의가 크다. 특히 이번에 제안한 방법은 반도체 산업분야에서의 수율 및 분석정확도의 획기적인 향상을 위해 삼성종합기술원(송세안 수석연구원)에서 초미세 다층박막 표준시편을 이용하여 수많은 현장시험을 통해 정립시킨 방법으로 일본 등 반도체 강국에서 많은 관심을 보이고 있다. 이로써 우리나라는 선진국들이 표준의 선점으로 합법적인 기술 장벽을 만들어 자국시장을 보호하는 현실에서 반도체 분야의 국제표준을 실질적으로 이끌어 나갈 수 있는 계기가 마련되었으며 세계시장에서 우리 반도체 관련 제품의 수출증대를 위한 전환점이 될 것으로 기대된다. 붙임 1. 반도체용 다층 박막의 분석결과 2. 나노박막 분석용 투과전자현미경 시스템 |
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