제목 | 차세대 평판 디스플레이 선도기술 등 30개 신기술 개발 | ||||||
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담당자 | admin | 담당부서 | 신기술인증지원과 | 등록일 | 2008-12-23 | 조회수 | 3908 |
첨부파일 | 1222_(23일조간)_신기술인증지원과__2008년_제3회_신기술(NET)인증.hwp |
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내용 |
차세대 평판 디스플레이 선도기술 등 30개 신기술 개발 - 지식경제부 기술표준원에서 신기술(NET)로 인증 받아 - ㅁ 지식경제부 기술표준원(원장 : 남인석)은 경제적 파급효과가 크고 국가 경쟁력 향상에 기여할 30개의 새로운 기술을 2008년도 제3회 신기술(NET : New Excellent Technology)로 선정하고 신기술(NET)인증서 수여식을 개최한다고 밝힘 - 일시/장소 : 2008.12.22(월) 16:00~/르네상스호텔(역삼동 소재) - 인증기술수 : 30개(대기업 8개, 중소기업 17개, 출연(연) 1개, 공동 4개) ․분야별기술 : 전기전자 6, 정보통신 2, 기계소재 13, 원자력 1, 화학생명 5, 건설환경 3 ※ 2008년도 제3회 신기술(NET)인증기술 목록 참조 ㅁ 이번 신기술(NET)로 인증받은 기술에는 「㈜엔씰텍」이 개발한 “AMOLED용 비정질 실리콘의 주울 가열 유도 결정화 기술(JIC)”은 차세대 평판 디스플레이 제조용 실리콘 박막을 결정화 하는 기술로서 세계 디스플레이 산업을 선도할 중요한 기술로 평가되고 있음 ㅇ 이 기술을 활용할 경우 기존 결정화 기술 대비 50% 장비 투자 절감 효과와 80% 정도의 유지보수비 절감 효과 및 연간 100억원 이상의 수입대체 효과가 예상됨 * JIC(Joule-heating Induced Crystallization): 비정질 실리콘 박막을 다결정으로 제조하기 위해서 종래의 열처리방법에서는 별도의 열처리로 또는 레이저를 사용하였으나, JIC 공정에서는 비정질 실리콘 박막 상부 혹은 하부에 도전층 박막을 증착한후 도전층 박막에 전기장을 가하여 발생된 고열에 의해 상온에서 급속 결정화하는 방법임 * 붙임 : 보도자료 전문 |